<石墨烯CVD制备设备-上海昊量光电设备有限公司
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石墨烯CVD制备设备

大概描诉:这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。石墨烯CVD制备设备

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图解简介
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,生物产业,电子

石墨稀CVD光催化原理设备

这牌安装的低蒸空CVD操控模式性由1200℃蒸空管式炉,3车道气路操控模式性和蒸空操控模式性组合,可表明手机用户必须设置产生有双温区、三温区、多温区),可预抽蒸空(有高蒸空、低蒸空),通四种氛围音乐(供氧操控模式性有质子热度操控器和浮子热度操控器〕。蒸空泵、阀均釆用国外进口仪器,使用稳定性靠普。操控电跻并选择不清PD程控系统软件,包括控温精确髙,温冲震幅小,使用稳定性靠普,简单的易操作流程等结构的特征。CVD萌发操控模式性支持于CVD艺,如氧化硅电镀、陶片导电率试验、ZnO奈米结构的的可控性萌发、淘瓷电解电容(MLCC)氛围音乐焙烧等。

工艺参数值

1200双温区烧水炉

电流值 AC220V 50/60Hz

功效 4.5KW 双温控仪

Max温暖 1150 °C

工作温度 ≤ 1100 °C

升温速率 ≤  15°C/min

控温操作系统 PID自动化操纵稳定硅(稳定硅)输出功率,30段可编程控制器

恒温精度 ±1°C

石英砂管 25/50/60/80*1400mm

 三路品质热度管理体统MAX电压值 185~245V/50HzMAX输入输出耗油率  18W留量计标准规定示值 50,100,200,500SCCM(非特俗以惰性气体校正,示值可选择定)

工作温度 5~45  °C

运作气体压力 0.1~0.5 MPa

MAX压 3MPa

正确度 ±1.5%FS

 

低真空泵控制系统

所采用双极旋片真空箱泵

不透钢充油进口真空学习液压表,保持良好的建筑抗震等级性

布置过滤清洁器

 

内装测温度操作系统

红外测温度元器件封装可从受热区边侧延申至温区中间法兰盘封密,确认炉管的封密性红外测温度元器件封装,N型热电偶温度计

 

法兰部及斜撑

304不锈钢304快散热蝶阀法兰部盘,长时散热无被腐蚀,一位管箍就能达到蝶阀法兰部盘的接入,放取物品便热键可调节节蝶阀法兰部盘的斜撑力,不平衡量炉管的刚度斜撑力。包涵进气,吸气,真空体抽口针阀,KF封口隔绝圈及管箍搭配,4个封口隔绝透明硅胶圈等。

 

待选部件

混气PC软件,中,高高压气PC软件,各类刚玉坩埚,石英砂管,核算机把握PC软件,无纸记录卡仪,氧含碳量剖析仪,放凉水循坏机。

 
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