DMD无掩膜光刻机

品牌	其他品牌	产地类别	国产
应用领域	化工,电子

DMD无掩膜光刻机无需制造掩膜，采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据，除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源，降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜，一次曝光面积可达1mm´0.6mm，曝光时间仅需1s。结合电动移动平台，可实现曝光拼接，分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定，使操作简洁方便。

 

DMD无掩膜光刻机与传统的光刻机不同，AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术，无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件，直接进行光刻。除了CAD文件，还可以读取丰富的其它格式的数据，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

  

 AU-PALET DMD式无掩膜光刻机选择短中波段的节能灯为泛光灯，相较于所有的泛光灯，拥有着会高的不稳性和更长的期限，消减售价的另外体现目标了不稳的吹捧。AU-PALET 无掩膜光刻机为面吹捧，选择10倍的物镜，一下吹捧户型能够达到到1mm´0.6mm，搭配電動移动台可体现目标吹捧拼结，能够达到到更高的吹捧户型。可顺利通过平台编纂的app实现简单化方法和具体控制，方法简练省事。 环保设备有效机构进入中国的DMD式无掩膜光刻机有五种。 ①  AU-PALET就是款迅速的光刻的无掩膜光刻机。本安全装置进行375nm的LED灯源，实行了不维持性的大瀑光，还赋予更快的不维持性性和更长的使用寿命。进行10´的物镜大瀑光大小达标1mm´0.6mm，光刻区分率达标5mm，并在10s 内完整大瀑光。②  

  ②AU-PALET­_new 是AU-PALET的晋级旧版，在的光照上选择光谱更短的365nm的LED灯珠对于的光照，选择10´的物镜曝出平数高于1mm´0.6mm，光刻判定率高于3mm，并在1s 内成功曝出。 

  u  通常优缺点

• 迅强度（1s）
• 广范围图（1´0.6mm）
• 365nm LED光照
• 满区分率 （3mm）
• 总成本高

 u  其主要广泛应用带磁胶片等的指定形态的花纹的组成感应器器，半导体行业元器件的制成MEMS元器的生产制造、光学子，LED的生产制造微流体力学配件的试制品掩膜版制作方法组织分开入口通道等的打造光波导路的设计制作    主要是性能

尺寸 运作	AU-PALET	AU-PALET_new
光线	375nm LED	365nm LED
光刻识别率（应用10倍物镜）	5 mm	3 mm
爆光占地面（施用10倍物镜）	1mm´0.6mm	1mm´0.6mm
服务平台	全自动XYZq网上平台	手动式XYZq网站
形成	器本质上，计算机， app	仪器本就，手提电脑， 手机软件
外貌尺寸图	420(W) x 300(D) x 600(H)	300(W) x 450(D) x430(H)
高级设置	2x长焦镜头，电动四轮软件等	2x光圈，自动APP等